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Entegris扩展VaporSorb过滤器系列帮助提高半导体制程的良率

发布时间:2020-07-21 18:40:13 阅读: 来源:真空泵厂家

Entegris, Inc.,一家为先进制造环境提供良率提升材料和相关解决方案的领先企业,日前发布了 VaporSorb™ 系列气体分子污染 (AMC) 过滤器的新产品。此款新型的“多合一”单过滤器可在半导体制造的化学机械研磨 (CMP) 工艺中去除关键 AMC。领先的过滤器品牌 VaporSorb 在半导体制造的关键步骤中主要用于洁净室环境和生产机台,是面向 CMP 生产机台的首款过滤器,可抵御弱酸以及其他污染物。

本文引用地址:此款新型过滤器专为 CMP 机台设计,可为单过滤器中所有关键 AMC 提供均衡寿命,从而避免多片过滤器处理的复杂性。此外,此款过滤器保留了 VaporSorb 品牌业界领先的使用寿命优势,从而能够降低机台宕机时间和使用成本。

Entegris AMC 过滤解决方案产品营销经理 Marc Venet 表示,“正如在光刻工艺中那样,CMP 工艺中的良率问题可通过提供全面的 AMC 保护得以解决。这意味着能够抵御弱酸,以及强酸和其他污染物。借助 VaporSorb CMP 产品,我们可以提供一体化解决方案彻底解决 CMP 工艺中 AMC 引发的腐蚀缺陷。”

弱酸包括乙酸和甲酸(醋酸盐;CH3COO- 和甲酸盐;HCOO-)以及亚硝酸(亚硝酸盐;NO2-)等。强酸包括 HNO3、SO2、H2SO4 以及 HCl 等。这些污染物会导致 CMP 工艺缺陷和良率问题。

7 月,公司发布了业界首款“四合一”过滤器,即面向光刻机台的 VaporSorb TRK,用于捕获气体有机物、碱基类、强酸和弱酸。VaporSorb 过滤器采用 Entegris特有的混合材料,可捕获气体分子污染物,专为提供特定于应用和工厂的过滤器解决方案而量身定制。

欲了解有关 VaporSorb CMP 过滤器的详细信息,请访问 。

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